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第一三八四章 光刻机的现状(上)

EUV LLC联盟的研发费用出资比例中,牵头的美国能源部出30%,Intel和GCA各出20%,Motorola、IBM、IT、ADM和HP各出4%,Micron和Cymer等其他33家科技企业和研究机构共出10%,今后享受的权利同出资比例相同。

GCA需要出资的20%中,以前的EUV研究成果折算15%。

GCA这些年为了研发EUV投资了1.5亿美元,取得了不少有关EUV的研究成果,但离成功还有很远的距离,以GCA一家之力很难完成,汤普森院长不得不放弃,出面邀请美国能源部和Intel等光刻机和半导体产业的同行,美国能源部牵头成立了EUV LLC。

美国能源部的三家国家实验室、Intel和Cymer等公司这些年也在研发EUV,但远远落后在GCA的后面,汤普森院士众望所归,成了EUV LLC联盟的CTO。

作为GCA的法人兼董事长,孙健乐见其成。

光刻机公司迟迟不能攻克193nm波长的世界级难题,65nm制程工艺光�

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