gca当时投入研发euv技术项目的3000万美元经费，可以收购asml40%的股权，不是一笔小数目！
gca当时账上的现金流只剩下300多万美元，公司要花钱的地方多的是。
孙健前世在互联网上看过不少有关asml euv光刻机的文章，作者纷纷感叹研发和生产euv光刻机之难难于上青天，被称为外星人的科技水准，是迄今为止人类科技领域所能达到的最尖端技术，没有之一。
为了打破封锁，投入巨资，举国之力也没有看见成果。
前世90年代末，干式193nm波长光刻机遇到了65nm制程工艺的极限，再往下就寸步难行，如何跨入40nm制程工艺？成为阻挡所有光刻机等半导体厂商的世界性难题，科学家和产业界提出了各种超越193nm波长的方案，其中包括157nm f2激光，电子束投射(epl)，离子投射(ipl)、euv(13.5nm)和x光等。
相对而言，157nm f2激光的技术难度�
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