一九六一年，gca是第一家制造商业步进和重复掩模减少设备的公司；七五年，推出了首个用于抗蚀剂加工的晶圆轨道；七八年，推出dsw4800、第一个成功的晶圆光刻机；八五年研发出第一台为贝尔实验室开发的duv步进投影式光刻机。
技术实力雄厚。
八八年，generalsignal以七千六百万美元收购了陷入财务困境的gca，随后，sematech资助gca开发krf光刻机。
前世因为美国人不准asml生产的euv光刻机卖给国内，讨论光刻机文章经常出现在网络上，爱国的知识分子义愤填膺，知识无国界只是一句谎言。
光刻机的技术迭代历程分为五代，第一代为g-line，波长436nm接近式光刻机、芯片制程800-250nm；第二代为i-line，波长365nm接近式光刻机、芯片制程800-250nm；第三代为krf，波长248扫描投影式光刻机、芯片制程180-130nm；第四代为arf，波长193nm浸入步�
更多内容加载中...请稍候...
本站只支持手机浏览器访问，若您看到此段落，代表章节内容加载失败，请关闭浏览器的阅读模式、畅读模式、小说模式，以及关闭广告屏蔽功能，或复制网址到其他浏览器阅读！
本章未完，请点击下一章继续阅读！若浏览器显示没有新章节了，请尝试点击右上角↗️或右下角↘️的菜单，退出阅读模式即可，谢谢！