EUV LLC联盟的研发费用出资比例中，牵头的美国能源部出30%，Intel和GCA各出20%，Motorola、IBM、IT、ADM和HP各出4%，Micron和Cymer等其他33家科技企业和研究机构共出10%，今后享受的权利同出资比例相同。

GCA需要出资的20%中，以前的EUV研究成果折算15%。

GCA这些年为了研发EUV投资了1.5亿美元，取得了不少有关EUV的研究成果，但离成功还有很远的距离，以GCA一家之力很难完成，汤普森院长不得不放弃，出面邀请美国能源部和Intel等光刻机和半导体产业的同行，美国能源部牵头成立了EUV LLC。

美国能源部的三家国家实验室、Intel和Cymer等公司这些年也在研发EUV，但远远落后在GCA的后面，汤普森院士众望所归，成了EUV LLC联盟的CTO。

作为GCA的法人兼董事长，孙健乐见其成。

光刻机公司迟迟不能攻克193nm波长的世界级难题，65nm制程工艺光刻机迟迟见不到身影，GCA和Nikon着急，但最着急的是财大气粗的Intel和AMD，没有下一代光刻机，Intel和AMD研发的下一代CPU只能成为研发成果，不能变成产品，不能上市，消费者将失去购买欲望，公司的销售和利润锐减，投资者用脚投票，股价下跌，市值减少，研发费用减少，研发受阻，会发生一系列连锁反应。

前世，由于迟迟不能攻克193nm波长的世界级难题，光刻机制程工艺一直停留在90nm，摩尔定律失效！直到2007年左右，ASML生产的世界第一台193nm波长的浸没式光刻机问世，一举突破了90nm制程工艺，65nm、45nm、32nm、28nm、20nm、14nm、10nm……制程工艺越来越细，制造难度越来越大。

重生前，EUV光刻机已经诞生，台积电已经宣布能生产7nm制程工艺的芯片，全球光刻机公司就剩下ASML、Nikon、Canon和沪海微电子（SMEE）等四家。

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“各位董事都知道，业界对下一代光刻机的发展提出了两条技术路线，据我所知，157nm光刻技术同样遭遇到了来自光刻机透镜的巨大挑战，不是短时间能克服的；即使EUV LLC联盟在5年内研发成功EUV，但EUV光刻机量产还有很长的路要走，业

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